Wykorzystanie plazmy SF6 w procesach teksturowania podłoży Ti6A17Nb

Celem pracy było przeprowadzenie procesów suchego trawienia plazmowego stopu
tytanu Ti6Al7Nb, przy wybranych parametrach procesu procesu: ciśnienia (0,6 Pa lub 1,3
Pa) oraz potencjału autopolaryzacji (300 V, 500 V lub 700 V). Następnie badano prędkość
trawienia oraz strukturę geometryczną powierzchni za pomocą profilometru stykowego.
Kolejnym badaniem była obserwacja trawionych podłoży pod mikroskopem
stereoskopowym. Ostatnim przeprowadzonym badaniem była analiza jakościowa i
ilościowa trawionych powierzchni za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego z
detektorem EDS.

The aim of the Bachelor Thesis was to carry out plasma etching processes of
titanium alloy Ti6Al7Nb with selected process parameters: pressure (0.6 Pa or 1.3 Pa) and
self-bias potential (300 V, 500 V or 700 V). Afterwards the etching speed and surface
geometric structure were tested using a contact profilometer. The surface structures were
then examined under a stereoscopic microscope. The last study was a qualitative analysis
of the etched surfaces using a scanning electron microscope with an EDS detector.